光学薄膜材料在展览展示中的优势
2023-11-17
ITO膜性能及制成技术
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- 发布时间：2021-10-20
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【概要描述】从上面的分析可以看出，由于材料本身的特定物理化学特性，ITO膜具有良好的导电性和可见光区域。
高光透射率。
ITO膜性能及制成技术
【概要描述】从上面的分析可以看出，由于材料本身的特定物理化学特性，ITO膜具有良好的导电性和可见光区域。
高光透射率。
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一、前言
实际上，进行透明导电薄膜材料研究是在19世纪末，光电材料获得了薄金属层
刚刚。经过很长时间的第二次世界大战期间，对透明导电物质的研究进入了新的时期，开始了。
宽波段禁止N型简单半导体SnO2材料，主要应用于飞机的制冰窗玻璃。1950年，第二个透明的一半
导体氧化物In2O3首次制造，特别是在In2O3中掺入锡后，在透明导电薄膜方面，这种材料变得普遍。
应用及广泛的应用前景。
锡掺杂的氧化铟(即ITO)材料是N型半导体材料，因为高电导率和高电导率
由于可见光透过率、高机械硬度和化学稳定性，液晶显示器(LCD)、等离子显示器(PDP)、电力。
电致发光显示器(EL/OLED)、触摸屏(Touch Panel)、太阳能电池和其他电子设备的透明电极最常用
材料。
二、ITO膜的基本特性
1、ITO膜基本特性
如图1所示，ITO (In2O: SnO2=933601)的微观结构，In2O3中混合Sn，SN元素可以代替In2O3网格中的In。
元素以SnO2的形式存在。In2O3的In元素是3价格，所以形成SnO2时，电子对导带有贡献，同时
在一定的缺氧状态下产生氧气空穴，形成102
0 ~ 1021cm-3的载波浓度和10 ~ 30cm2
/vs的迁移率。这台机器
10-4。提供厘米规模的低薄膜电阻率，使ITO薄膜具有半导体的导电性。
ITO是一种宽波段薄膜材料，波段间距为3.5-4.3ev。在紫外线区域生成禁区的激励吸收阈值相当于3.75ev。
在330nm的波长下，紫外线区ITO膜的光穿透率很低。同时，近红外区域由于载体等离子体振动现象
由于发生反射，近红外区域ITO膜的光透射率也较低，但可见光区域ITO薄膜的透射率在图2中非常好。
可以知道。
从上面的分析可以看出，由于材料本身的特定物理化学特性，ITO膜具有良好的导电性和可见光区域。
高光透射率。
上文是对“ITO膜性能及制成技术”的整体概述，大家自行参考一下吧。
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